Halbpatent
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Bild: Halbpatentmuster - Rückseite
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Das Halbpatentmuster ist eine Variante des Patentmusters und des Glattpatentmusters und ein weiteres einfaches Muster, das schnell von der Hand geht und sich besonders gut für Schals und Überwürfe eignet. Der Unterschied liegt in den Rückreihen, wodurch ein Gewebe entsteht, das auf beiden Seiten anders aussieht.
Ähnlich dem Patentmuster, benötigt dieses Muster etwas mehr Garn als andere Muster und es dehnt sich nach dem ersten Waschen, was beim Anfertigen der Maschenprobe berücksichtigt werden sollte.
Anleitung
Maschenzahl teilbar durch 2 + 1 + 2 Randmaschen. Das Muster zwischen den Pfeilen beliebig oft wiederholen.
Alle Reihen gemäß Strickschrift ausführen. Hinreihen (1, 3 usw.) von rechts nach links, Rückreihen (2, 4 usw.) von links nach rechts arbeiten.
Zeichenerklärung
Randmasche
1 M li
1 M re
1 M mit 1 U wie zum li str abheben
die abgeh M der Vorreihe zus mit dem U li str
Strickanleitung
1. R: Randm, * 1 M mit 1 U wie zum li str abheben, 1 M li; von * stets wiederholen, bis nur noch 2 M auf der linken Nadel sind, 1 M mit 1 U wie zum li str abheben, Randm
2. R: Randm, 2 M li zus str (1 M + 1 U), * 1 M re, 2 M li zus str (1 M + 1 U); von * bis zum Ende der R stets wiederholen, Randm
Reihen 1 bis 2 stets wiederholen.
